第181章 光刻機，制矽，晶片 (第1/3頁)

李衛東睜開眼睛，目光中閃爍著堅定的光芒。

暗暗發誓，要用自己的能力來改變這一切，要讓炎國重新站在光刻機技術的最前沿。

系統的聲音在他腦海中響起：

【叮！兌換成功，您已獲得第一代和第二代光刻機技術。】

李衛東深吸一口氣，開始仔細回顧剛剛獲得的知識。

第一代光刻機，採用的是接觸式曝光技術。

它透過將掩模版直接與塗有光刻膠的矽片接觸，然後用紫外線照射，將圖形轉移到矽片上。

這種方法雖然簡單直接，但由於掩模版與矽片的直接接觸，容易造成損壞，且解析度有限。

第二代光刻機則採用了近貼合式曝光技術。

它在掩模版與矽片之間保持一個很小的間隙，透過壓縮空氣或惰性氣體填充這個間隙，既避免了直接接觸帶來的損壞，又提高了解析度。

這種技術可以製造線寬達到2微米左右的積體電路，大大提升了晶片的整合度。

李衛東睜開眼睛，深邃的目光中閃爍著興奮的光芒。

他知道，憑藉這些技術，他完全可以帶領團隊製造出炎國自己的光刻機。

第二天一大早，李衛東就召集了研發團隊的核心成員。

會議室裡，每個人的臉上都寫滿了好奇和期待。

\"同志們，\"李衛東站在前方，目光炯炯有神地掃視著每一個人，\"我們即將開始一項關乎國家未來的重大專案——自主研發光刻機！\"

話音剛落，會議室裡頓時一片譁然。

大家都知道光刻機的重要性，也清楚目前國內在這方面的短板。

\"李工，這...這是真的嗎？\"一位年長的工程師顫抖著聲音問道，眼中閃爍著激動的淚光。

李衛東鄭重地點點頭：\"是的，張工。我們不能再坐以待斃了。現在，我們有了突破性的技術，是時候追趕上去，甚至超越他們了！\"

接下來，李衛東開始詳細講解光刻機的各個部件和製造流程。

從光源系統到光學系統，從對準系統到步進系統，每一個環節他都講解得清晰明瞭。

團隊成員們聽得如痴如醉，紛紛拿出筆記本記錄著這些珍貴的資訊。

\"記住，\"李衛東特別強調道，\"最關鍵的是光學系統。這是光刻機的'眼睛'，直接決定了我們能夠製造多精密的晶片。\"

說到這裡，李衛東的目光變得格外認真：\"這個部分，我會親自負責。\"

會議結束後，整個研發中心立刻沸騰了起來。

每個人都帶著使命感投入到了這項偉大的工程中。

機械工程師們開始設計機架結構，光學專家們埋頭計算光路，電子工程師們則忙著設計控制系統。

李衛東則把自己關在了實驗室裡。

他知道，光學系統是整個光刻機的靈魂，容不得半點馬虎。他一遍又一遍地推敲每一個引數，反覆驗證每一個設計。

日復一日，李衛東幾乎以實驗室為家。

他的眼睛因長時間盯著顯微鏡而佈滿血絲，雙手因頻繁除錯精密儀器而起了繭子。但每當他看到那些逐漸成型的光學元件時，疲惟就一掃而空，取而代之的是無比的欣喜和自豪。

與此同時，其他部件的製造也在緊鑼密鼓地進行著。精密機床日夜不停地運轉，加工著各種複雜的零件。焊接車間裡，工人們小心翼翼地將一個個元件組裝在一起。

終於，在經過一個月的艱苦奮戰後，第一臺光刻機的雛形出現在了眾人面前。

\"太...太不可思議了！\"看著眼前這臺龐大而精密的儀器，張工激動得說不出話來